
The most important piece of technology in your lifetime is this tiny chip | Chris Miller
La technologie la plus importante de votre vie est cette minuscule puce | Chris Miller
Thema TJFD

La technologie la plus importante de votre vie est cette minuscule puce | Chris Miller

Comment GaN alimente l'avenir de l'IA |Dr. Rohan Samsi | Infineon Technologies

Les semi-conducteurs expliqués en 16 minutes | Chris Miller

Accélérer l'IA avec GaN : une alimentation à haute efficacité pour un avenir plus intelligent | M. William Feng



Contrôle de la contamination dans la fabrication des semi-conducteurs

Les Opportunités et Défis du Dispositif Électronique GaN à Taiwan Compound | Dr. Hsien-Chin Chiu

MicroLED dans les écrans et au-delà : permettre les futurs dispositifs optoélectroniques


Ligne pilote de carbure de silicium d’innovation ouverte de 8” et technologies de plateforme à A*STAR Singapour

Une nouvelle ère des semi-conducteurs se profile à l'horizon |M. Eelko Brinkhoff | PhotonDelta

Une nouvelle ère pour l'électronique des semi-conducteurs - Partie 2

Power & Optoelectronics : Débloquer l'avenir de l'IA |M. Martin Gallezot |CEA-Leti

On-Demand | L'avenir des semi-conducteurs sur un marché mondial

Une nouvelle ère pour l'électronique des semi-conducteurs - Partie 1

Cette nouvelle technologie pourrait tuer TSMC et ASML

Semi-conducteurs composés : des catalyseurs clés de la nouvelle ère de l'IA |M. Poshun Chiu|Yole Group


Fiabilité et traçabilité des boîtiers avancés


2025 L13 : Décharge électrostatique (DES) (2)

Prochaine étape dans le domaine des semi-conducteurs à Purdue

L'homme que les entreprises appellent quand elles n'arrivent pas à comprendre l'emballage des puces

2025 L12: Décharge électrostatique (ESD) (1)

Dans le laboratoire où les puces sont réduites au-delà de 1 nm

2025 L9: Claquage diélectrique dépendant du temps (2)

2025 L8: Charges d'interface et instabilité de température de polarisation (2)/Claquage diélectrique dépendant du temps

2025 L7: Charges d'interface et instabilité de température de polarisation (1)

Conférence prestigieuse sur les semi-conducteurs à Purdue, présentée par Anthony Yen, ASML
![[Dry Etch Part3] Plasma Etch Basics (1 of 2)](https://i.ytimg.com/vi/5I1KGvO6O04/maxresdefault.jpg)
[Dry Etch Part3] Bases de la gravure plasma (1 sur 2)
![[2025 short course] 5-3: SiC MOSFETs Interface Challenges/PBTI/HTRB/Switching](https://i.ytimg.com/vi/fFHK9CpO614/maxresdefault.jpg)
[Cours abrégé 2025] 5-3 : Défis d'interface des MOSFET SiC/PBTI/HTRB/Commutation



2025 L4 : Dispositifs électroniques : comment ils fonctionnent et sont fabriqués/Défauts, contaminants, rendements(1)

![[2025 short course] 5-2: GaN BTI/TDDB/Switching/CGD/CGS & SiC TDDB](https://i.ytimg.com/vi/guedXDV6Ye8/maxresdefault.jpg)
[Cours court 2025] 5-2 : GaN BTI/TDDB/Switching/CGD/CGS & SiC TDDB

L'avenir des technologies matérielles pour l'informatique

De l'idée au produit : faire le pont entre la conception et la fabrication de semi-conducteurs

Pourquoi l'avenir des puces se construit dans le désert